报 告 人：杨志，副教授，硕士生导师

报告时间：2023年11月29日 下午14:00 -15:30

报告地点：宜宾校区 Y1-311多媒体教室

主办单位：亿万先生MR

报告人简介：

杨志，博士，副教授，硕士生导师，2017年12月毕业于西安交通大学，同年加入亿万先生MR，2019年入选西华大学青年后备人才支持计划，现任中国腐蚀与防护学会第十届缓蚀剂与水处理专业委员会委员，四川省人社厅专家服务团专家。近年来，参与或主持各类科研项目10余项，在国内外学术期刊发表SCI论文20余篇，申请国家专利5项。研究方向包括：材料物性的理论计算、新能源材料、先进薄膜材料及性能表征等。

内容简介：原子层沉积（ALD）是一种适合于研制最新的和前沿性的产品的薄膜制备技术，也是一种用于纳米技术研究的有效方法，可在各种尺寸和形状的基底上沉积高精度、无针孔、高保形的纳米薄膜。报告介绍了原子层沉积的基本原理，氧化铪生长过程中的表面吸附与生长模式演变，氧化铪薄膜表面动态演化及薄膜生长行为演变等。

欢迎纳米技术专业及相关领域老师、同学参加！